Technologie der Kupfermarkierung
Die Herausforderung bei der Markierung von Kupfer ist das hohe Reflexionsvermögen der Materialien. Daher ist eine hohe Spitzenleistung erforderlich, um sicherzustellen, dass genügend Strahlung vom Material absorbiert wird. Bei der Verwendung eines Multi-Wellenform-Verfahrens wird im ersten Durchgang die hohe Spitzenleistung und Energie des Pulses genutzt, um das Substrat für den zweiten Durchgang zu erzeugen. Der zweite Durchgang verwendet dann unterschiedliche Pulslängen, Scangeschwindigkeiten und Frequenzen, um Markierungen auf der Oberfläche des markierten Teils zu erzeugen.
Lasermarkierung von Kupfer als Dienstleistung oder kundenspezifische Ausrüstung
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